光學(xué)測量系統(tǒng)在表面測量和坐標(biāo)測量中有著廣泛的應(yīng)用。這些系統(tǒng)速度快，分辨率高，可在非接觸和非破壞性模式下操作；這些方面對于未來的工廠至關(guān)重要。然而，光學(xué)測量往往是不可追溯的，由于被測對象和測量系統(tǒng)之間的相互作用的復(fù)雜性。該項目旨在改善測量基礎(chǔ)設(shè)施，以實現(xiàn)可追溯的工業(yè)三維粗糙度測量以及形狀和尺寸，并為最終用戶提供指導(dǎo)，從而支持尺寸測量在工業(yè)中的成功實施。

Sen far 旨在利用他在光學(xué)計量學(xué)方面的豐富經(jīng)驗和他在工業(yè)市場的深厚知識，通過以下方式為這個項目做出貢獻(xiàn)：

向聯(lián)合會表達(dá)對粗糙度、波紋度、形狀或尺寸光學(xué)測量的需求
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提供測試測量的 S neox 系統(tǒng)使用共 聚焦 ， 人工智能焦點變化 和 干涉 技術(shù)給協(xié)會
與 S neox ， 我們比較測量的旗艦系統(tǒng)
在 ISO 25178 標(biāo)準(zhǔn)化工作